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脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)

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產(chǎn)品型號PLD-Workstation

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地上海

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更新時間:2025-01-12 13:03:00瀏覽次數(shù):62次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:166條

所在地區(qū):

產(chǎn)品簡介

詳細(xì)介紹

脈沖激光沉積(PLD)是用于薄膜沉積的通用工藝,其主要優(yōu)點是將材料按化學(xué)計量從靶轉(zhuǎn)移到基板。SURFACE PLD-Workstation是薄膜的優(yōu)秀原型設(shè)計和研究系統(tǒng),可輕松獲取新材料,特別是復(fù)雜氧化層。

PLD-WorkstationPLD系統(tǒng)的所有組件(包括激光和激光氣體供應(yīng))集成到一個框架中。緊湊的設(shè)計使系統(tǒng)的使用最靈活,并避免了許多硬件安裝工作。所有這些都是的多功能性的關(guān)鍵,即使對于沒有PLD技術(shù)經(jīng)驗的用戶,也可以使用PLD設(shè)備!

PLD-Workstation以強大而緊湊的設(shè)計提供的沉積技術(shù)-適用于廣泛的應(yīng)用。其不但具有內(nèi)置的靈活性的優(yōu)點,并且具有無以倫比的安全性:

? 全封閉激光束線,外部驅(qū)動鏡調(diào)節(jié),可安全地防止紫外線激光輻射;

? 激光和激光氣柜連接到外部排氣管。

二、功能

l 技術(shù)特點

一體化解決方案,用于快速即插即用"安裝

的過程自動化,也適用于超晶格沉積

耐氧襯底加熱器,具有1000°C的高溫測量功能

可任選地提供基板的激光加熱

靈活的機械手,具有交叉污染屏蔽功能

為系統(tǒng)升級準(zhǔn)備的真空室(RHEED,等離子源,OES / FTIR,...

SURFACE Fluence Control選項,可獲得100%可重復(fù)的結(jié)果

全封閉光束線,無憂無慮,安全操作

l 真空室:內(nèi)置靈活性

真空室專為研究而設(shè)計。它具有適用于見的原位分析工具或其他系統(tǒng)擴展的備用法蘭:

? 光學(xué)分析方法:OESFTIR

? RHEED

? 質(zhì)譜

? 額外的沉積或等離子體源

此外,兩個窗口允許從兩個不同角度和兩個側(cè)面觀察沉積過程。主要工藝組件:靶材和基板操縱器。標(biāo)準(zhǔn)配置提供2“基板加熱器和4×2"內(nèi)置靶材操縱器。

為了調(diào)節(jié)工藝條件,用于將工藝氣體供應(yīng)到腔室中的兩個質(zhì)量流量控制器通道是標(biāo)準(zhǔn)的。它們可以自動控制過程氣氛和壓力。

激光束將在兩個不同的入射角下撞擊靶材的每個點,因此不影響燒蝕材料的化學(xué)計量。為了實現(xiàn)均勻的靶材沉積,可以使用兩種不同的靶材運動模式:

切換:目標(biāo)傳送帶以連續(xù)運動的方式來回移動,以便激光束在距目標(biāo)中心的任何半徑處轟擊靶材。該模式易于設(shè)置,只需要知道靶材直徑。

掃描:移動目標(biāo)傳送帶,使激光束在靶材上寫入"定義的軌道。調(diào)整目標(biāo)旋轉(zhuǎn)速度和軌道間距以匹配激光光斑尺寸和重復(fù)率,實現(xiàn)了靶材的均勻沉積。

l PLD-Lab:多個腔室,一個激光器

如果需要更多吞吐量,可以將多個PLD工作站組合到共享一個激光器的系統(tǒng)中。帶有自動反射鏡的擴展光束線然后將激光束引導(dǎo)到所需的PLD工作站室。激光服務(wù)器計算機基于需求自動控制激光器和光束線,并且PLD室中的沉積過程被延遲,直到激光器可用于特定腔室。

l 技術(shù)參數(shù)

激光: 相干COMPexPro 201F205F,脈沖能量0.7 J ;

波長: KrF 248nm

壓力控制: 2MFC通道,自動壓力控制

基板加熱器: 直徑1“2",1000°C(根據(jù)要求可提供其他尺寸)或激光加熱器

基材旋轉(zhuǎn): 050 rpm

靶材: 4×2“,目標(biāo)旋轉(zhuǎn)(0-50 rpm)和帶軌道控制的位置,均勻沉積

控制系統(tǒng): 基于PC的控制,集成TFT監(jiān)視器

IT功能: LAN連接,SURFWARE支持軟件

尺寸: 2200×850×1600mm3

三、應(yīng)用

? 約瑟夫結(jié)

? PZT薄膜

? 金屬及復(fù)雜金屬氧化物

關(guān)鍵詞:控制器

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