上海納騰儀器有限公司
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產(chǎn)品型號F20
品 牌
廠商性質其他
所 在 地上海
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更新時間:2025-01-12 12:19:50瀏覽次數(shù):67次
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KLA的 Filmetrics 系列利用光譜反射技術實現(xiàn)薄膜厚度的精確測量,其測量范圍從 nm-mm,可實現(xiàn)如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量,被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫(yī)學等領域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t 等多款產(chǎn)品,可測量從幾 mm 到 450mm 大小的樣品,薄膜厚度測量范圍 1nm 到mm 級。
測量原理-光譜反射
光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質,半導體,和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應 (絕大多數(shù)薄膜都是旋轉對稱)。 因為不涉及任何移動設備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過 10um 的,而橢偏儀側重薄于 10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之間,兩種技術都可用。 而且具有快速,簡便,成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。
主要應用
測量厚度、折射率、反射率和穿透率:
技術能力
光譜波長范圍:190-1700 nm
厚度測量范圍:1nm-250 μm
測量n&k最小厚度:50 nm
準確度:取較大值,1nm 或 0.2%
精度:0.02nm
穩(wěn)定性:0.05nm
光斑大?。?/span>1.5mm
樣品尺寸:直徑從 1mm 到 300mm 或更大
半導體薄膜:光刻膠、工藝薄膜、介電材料
液晶顯示:OLED、玻璃厚度、ITO
光學鍍膜:硬涂層厚度、減反涂層
高分子薄膜:PI、PC
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