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X射線(xiàn)菲涅耳波帶板（FZP）

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詳細(xì)介紹

NTT的FZP由干法蝕刻的Ta組成。具有出色的高耐X射線(xiàn)輻射性、高分辨率和高對(duì)比度,吸收體圖案清晰，S/N比高，成像缺陷少, 能理想地應(yīng)用于X射線(xiàn)顯微鏡、X射線(xiàn)微光束輻射和X射線(xiàn)成像。
另外，還提供用于軟X射線(xiàn)和極紫外（EUV、XUV）領(lǐng)域的Ta圖案／SiN膜型FZP和Au板圖案／SiN 膜型FZP。并提供臺(tái)階式（基諾全息照片）FZP

型號(hào)	寬高比	膜材料	膜厚度（μm）	ΔRn （nm）	D （μm）	N	Tm （nm）
FZP-S38/84	4.2	SiN	0.15	38	84	550	160
FZP-S50/80	5	SiN	0.2	50	80	400	250
FZP-S40/155	5	SiN	2	40	155	970	200
FZP-S50/330	8	SiN	1	50	330	1,650	400
FZP-S86/416	8	SiN	2	86	416	1,200	700
FZP-100/155	8	SiN	2	100	155	388	800
FZP-173/208	5.8	SiN	2	173	208	300	1,000
FZP-200/206	8	SiN	2	200	206	255	1,600
FZP-C234/2500	0.6	SiC	0.2	234	2,500	2,670	150