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渦輪分子泵應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD
脈沖激光沉積 Pulsed Laser Deposition, PLD, 是一種利用激光對(duì)物體進(jìn)行轟擊, 然后將轟擊出來(lái)的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上, 得到沉淀或者薄膜的一種手段. PLD 系統(tǒng)由多個(gè)真空腔體組成, 整個(gè)系統(tǒng)需要超高真空且不能引入任何雜質(zhì), 對(duì)環(huán)境的清潔度要求較高, 必須配備無(wú)油干泵和分子泵抽真空. 由于各個(gè)輔助腔體體積較小, 因此特別適合使用 Pfeiffer Hicube 系列分子泵組. 上海伯東普發(fā) Pfeiffer 分子泵組因其結(jié)構(gòu)緊湊體積小, 清潔無(wú)油（前級(jí)泵配備干泵) , 抽速快, 極限真空度高達(dá) 10-11mbar 等優(yōu)點(diǎn)廣泛應(yīng)用于此設(shè)備.
上海伯東脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例：某大學(xué)電信系 脈沖激光沉積系統(tǒng)
1. 系統(tǒng)功能：主要用于 Mn 氧化物等復(fù)雜材料膜。
2. 渦輪分子泵真空度要求: 真空度< 1x10-6pa
3. 樣品尺寸: 6英寸
4. 基片旋轉(zhuǎn), 加熱溫度：750℃
5. 膜生長(zhǎng)控制模式: 鍍率 / 厚度 / 時(shí)間 控制模式
真空系統(tǒng)配置:超高真空系統(tǒng)配置:
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| 渦輪分子泵 HiPace 400 |
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| 渦輪分子泵 HiPace 80 |
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| 隔膜泵 MVP 040 |
Pfeiffer 渦輪分子泵抽速范圍 10 至 2700 L/S, 轉(zhuǎn)速 90,000 rpm, 極限真空 1E-11 mbar, 對(duì)小分子氣體具有更高的壓縮比, 實(shí)踐證明 Pfeiffer 渦輪分子泵運(yùn)行時(shí)間可以達(dá)到 100,000 小時(shí)! 普發(fā)分子泵提供復(fù)合軸承分子泵和五軸全磁浮分子泵二大系列滿足不同應(yīng)用, 推薦搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 更多分子泵典型應(yīng)用 >>
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