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銷售等離子清洗機報價

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艾博納微納米科技(江蘇)有限公司致力于科研器材的研發(fā)與生產(chǎn),以國際科研單位力量為支點,凝聚社會力量共同謀求推動全“人類科學發(fā)展與進步”。艾博納微納米科技(江蘇)有限公司創(chuàng)立于中國江蘇,用戶群體分布于世界各國以及國內大陸大部分地區(qū)。公司主營業(yè)務有物理科研器材、二維材料轉移裝置、二維材料微納加工設備、微納米光學系統(tǒng)包括遠場以及近場全波段光學顯微系統(tǒng)研發(fā)、國產(chǎn)原子力顯微鏡、耗材(包含氮化硼國產(chǎn)高質量生長等各種晶體、硅片、超干凈藍膜膠帶等)、其他二維材料制備相關設備如等離子處理儀、顯像設備等。所有經(jīng)由我司售賣的產(chǎn)品均享受售后保障,用戶可放心購買。

 

 

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該款石英真空等離子清洗機采用石英腔體設計,密封性優(yōu)良;13.56射頻等離子發(fā)生器,產(chǎn)生高密度等高子體,確保出眾的清洗效果,滿足用戶對小產(chǎn)品表面處理及實驗測試的需求,同時可以節(jié)約用戶成本,用合適的預算完成自己的目標。
銷售等離子清洗機報價 產(chǎn)品信息

  該款石英真空等離子清洗機具備特殊的石英腔體設計,具有優(yōu)良的密封性能,有效防止氣體泄漏,提升設備安全性。其13.56MHz射頻等離子發(fā)生器能夠產(chǎn)生高密度的等離子體,這種高密度等離子體可以深入產(chǎn)品表面的微小結構,從而確保出眾的清洗和處理效果。此外,這種高效的等離子體處理還有助于提升小型產(chǎn)品在實驗測試中的表現(xiàn),滿足科研和工業(yè)領域對高精度和高純度表面處理的嚴苛要求。

一、原理:等離子體如何實現(xiàn)高效清洗?

石英真空等離子清洗機利用等離子體的物理轟擊與化學反應,在真空環(huán)境中對材料表面進行清潔、活化和改性,適用于半導體、光學器件、醫(yī)療植入物等高精度領域。

1. 等離子體生成機制

真空環(huán)境:將反應腔抽至低真空(10??~10?? Torr),減少氣體分子碰撞干擾。

高頻電場激發(fā):通過射頻電源(通常13.56 MHz)使惰性氣體(如Ar)或反應氣體(如O?、CF?)電離,產(chǎn)生包含離子、電子、自由基的等離子體。

石英腔體優(yōu)勢:石英耐高溫、抗腐蝕,確保等離子體穩(wěn)定且不引入金屬污染。

2. 清洗作用原理

物理濺射:高能離子轟擊表面,直接剝離有機物、顆粒污染物。

化學反應:活性自由基(如O?、F?)與污染物反應,生成揮發(fā)性產(chǎn)物(如CO?、H?O)排出。

表面活化:等離子體處理可增加材料表面能,改善后續(xù)涂層或粘接性能。

二、操作流程:從開機到清洗的標準化步驟

1. 設備準備

檢查系統(tǒng)密封性:確認腔體、管道無泄漏,真空泵(如旋片泵+分子泵)正常運行。

氣體準備:連接氣瓶(如Ar、O?),調節(jié)流量計至設定值(通常20-50 sccm)。

樣品固定:將待清洗樣品置于石英托盤,避免遮擋等離子體覆蓋區(qū)域。

2. 參數(shù)設置

真空度:抽至基礎真空(<5×10?? torr="">

射頻功率:根據(jù)材料類型設置(50-300 W),功率過高可能損傷樣品。

處理時間:常規(guī)清洗5-30分鐘,超精細清洗可延長至1小時。

3. 啟動等離子體

通入工作氣體:先通入Ar氣預清洗,再切換至反應氣體(如O?去除有機物)。

點燃等離子體:開啟射頻電源,通過阻抗匹配器調節(jié)至穩(wěn)定輝光放電(肉眼可見均勻紫色/藍色輝光)。

過程監(jiān)控:觀察真空度、功率反射率(需<5%),異常時立即停機。<>

4. 結束與取樣

關閉氣體與電源:先停射頻,再關閉氣體,最后關閉真空泵。

破空取件:向腔體通入N?至常壓,佩戴無塵手套取出樣品。

三、維護要點:延長設備壽命的關鍵

1. 日常維護

腔體清潔:

每周用IPA擦拭石英腔體內壁,去除聚合物沉積。

頑固污染可用氧等離子體灰化(功率200 W,O?流量30 sccm,處理1小時)。

真空泵保養(yǎng):

每月檢查旋片泵油位,油質渾濁時更換(建議每500小時換油)。

分子泵需定期檢查軸承狀態(tài),避免高速運轉下卡死。

2. 關鍵部件維護

石英窗/托盤:

避免機械撞擊,清洗時使用軟布+去離子水,禁用硬質刷具。

每半年檢查透光性,若出現(xiàn)霧化或裂紋需更換。

射頻電極:

定期用砂紙打磨電極表面氧化層,確保導電性。

檢查電極與腔體的絕緣墊片,老化開裂時及時更換。

3. 校準與故障排查

真空計校準:每季度對比標準真空計,誤差>10%需調整。

氣體流量計校準:使用皂膜流量計標定,確保精度±2%。

常見故障處理:

等離子體不穩(wěn)定:檢查氣體純度(需≥99.999%)、匹配器阻抗。

真空度不足:排查密封圈老化、泵油污染或閥門泄漏。

清洗效果差:調整氣體比例(如Ar:O?=4:1增強氧化反應)。

四、安全與環(huán)保

氣體安全:O?、CF?等易燃/有毒氣體需配備泄漏報警器,尾氣經(jīng)scrubber處理。

輻射防護:等離子體產(chǎn)生紫外線,操作時關閉觀察窗,避免直視。

廢棄物處理:清洗后的廢液(如IPA)按?;芬?guī)范回收。

五、應用場景優(yōu)化

半導體封裝:使用Ar/O?混合氣體去除焊盤氧化層,提升鍵合強度。光學鍍膜前處理:H?等離子體還原表面,提高膜層附著力。

  石英真空等離子清洗機本機不僅在性能上表現(xiàn)還在成本控制上具有明顯優(yōu)勢。它允許用戶在合適的預算內完成高質量的表面處理任務,實現(xiàn)成本效益的增長。配備的可視化觸摸屏使操作更為直觀,過程參數(shù)的實時監(jiān)控功能讓用戶可以即時調整和優(yōu)化操作設置,確保處理效果始終符合預期。

  此外,該設備支持多種工藝氣體,包括氬氣、氧氣、氫氣、氦氣和各種氟化氣體,適應不同的處理需求和工藝條件。高精度的氣體流量監(jiān)測系統(tǒng)配合雙路工藝氣體配置(氬氣和氧氣),實現(xiàn)了雙路氣流的精確控制,用戶可以根據(jù)需要調整氣體比例,以達到優(yōu)質的處理效果。這種靈活的工藝氣體使用方式,配合精準的流量控制,進一步提高了設備的適用性和處理品質,是科研和工業(yè)領域理想的表面處理解決方案。

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 ?、谥С指鞣N工藝氣體,包括氬氣,氧,氫,氦和氟化氣體。

 ?、鄹呔葰怏w流量監(jiān)測系統(tǒng),兩路工藝氣體配置(氬氣、氧氣),雙路氣流控制,比例可調。

 

 

 



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