反力框架用于無側(cè)限試件成型。（研發(fā)單位：河北省虹宇儀器設(shè)備有限公司）
技術(shù)參數(shù)：

zui大承載：400KN；
上下板采用鋼板加工；
千斤頂上升高度：180mm；
反力框架模筒規(guī)格：φ50*100；
　　　　　φ100*200；
　　　　　φ150*250 。

反力架包括：反力架30KN，反力架50KN，反力架100KN，反力架300KN，反力架500KN，

使用注意事項(xiàng)：

1.　使用設(shè)備時，要認(rèn)真閱讀技術(shù)說明書，熟悉技術(shù)指標(biāo)、工作性能、使用方法、注意事項(xiàng)，嚴(yán)格遵照儀器使用說明書的規(guī)定步驟進(jìn)行操作。
2.　初次使用設(shè)備人員，必須在熟練人員指導(dǎo)下進(jìn)行操作，熟練掌握后方可進(jìn)行獨(dú)立操作。
3.　實(shí)驗(yàn)時使用的儀器設(shè)備及器材，要布局合理，擺放整齊，便于操作，觀察及記錄等。
4.　電子儀器設(shè)備通電前，確保供電電壓符合儀器設(shè)備規(guī)定輸入電壓值，配有三線電源插頭的儀器設(shè)備，必須插入帶有保護(hù)接地供電插座中，保證安全。
5.　使用 設(shè)備時，其輸入信號或外接負(fù)載應(yīng)限制在規(guī)定范圍之內(nèi)，禁止超載運(yùn)行。
6.　光學(xué)化學(xué)儀器及其配件，使用時要輕拿輕放，防止震動。切勿用手觸摸光學(xué)玻璃表面。發(fā)現(xiàn)灰塵及臟物時，不得用手或抹布擦試，必須使用品或工具清除。
7.　 設(shè)備不宜在磁場或電場中操作使用，必須采取屏蔽措施，防止儀器設(shè)備損壞或降低測量精度。
8.機(jī)械類儀器設(shè)備，使用前必須進(jìn)行空載運(yùn)轉(zhuǎn)確保*后方可加載使用。用前潤滑，用后擦試干凈。
9.　儀器設(shè)備不準(zhǔn)隨意拆改或解體使用，確因需要開發(fā)新功能或改造更新等，需按分級管理權(quán)限，履行審批手續(xù)后再實(shí)施。
10.　經(jīng)常進(jìn)行  設(shè)備的保養(yǎng)與維護(hù)，并存放在干燥通風(fēng)之處，待用時間過長儀器設(shè)備，應(yīng)定期通電開機(jī)，防止潮霉損壞儀器設(shè)備其零部件。
11.建立大型精度、貴重  設(shè)備技術(shù)指標(biāo)定期校驗(yàn)和標(biāo)定制度，保持應(yīng)有的技術(shù)指標(biāo)。做好使用原始記錄。